오늘날 모든 경쟁과 스키의 고성능 베이스는 소결된 UHMWPE (초고분자량 폴리에틸렌)로 만들어집니다. 이 재료는 중공 미세 공동들(hollow micro-cavities)로 구성된 3차원 벌집 구조를 가지고 있습니다. 소결 공정(sintering process) 동안, 중합체 분진이 이들 공동 내에 침착되어 공동을 막아 흡수 될 수 있는 왁스의 양을 제한합니다. 본 발명은 미세 구조로부터 이러한 잔류물을 세정해내고 스키의 UHMWPE 표면의 기능적 특성을 변경하여 왁스의 흡수량을 최대화하도록 설계된 대기압 플라스마 공정으로 구성됩니다.

이 아이디어는 Plasmatreat의 Openair-Plasma^® 및 PlasmaPlus^® 기술을 적용하여 물리적, 화학적 특성과 스키 베이스의 성능을 개선하는 것이 목적이었습니다. 이 프로젝트의 목표는 다음과 같습니다:

1. 베이스에 의해 흡수된 스키 왁스의 양 증대 마찰과 열로 인한
2. 미세 구조의 파괴를 지연시키기 위해 베이스 강화

개발 및 테스트는 2013년 9월에 시작하여 9개월 후인 2014년 5월에 새로운 프로세스에 대한 특허 출원이 제출되었습니다.

Plasmatreat 기술의 다양성은 당사 프로젝트의 우수한 점들 중 하나인 것으로 입증되었습니다. 플라스마 제트 활성화 및 증착 공정에 대한 당사의 풍부한 지식과 PlasmaPlus^® 기술의 유연성 덕분에 단시간에 최적의 공정 매개변수를 결정할 수 있었습니다. 얻은 결과는 특별합니다. 실제로 이 절차는 동일한 스키 준비 방법을 사용하여 스키 왁스 흡수가 4-6배 증가될 정도로 스키 베이스의 흡수 특성을 향상시켰습니다. 프로세스는 표면 세정 및 활성화 보호와

1. 나노 코팅의 플라스마 증착
2. 이렇게 두 단계로 나뉩니다.

UHMWPE 표면의 최종 구조에 대한 광학 현미경 분석은 더 넓고 깨끗한 공동을 보여줍니다. 또한 표면 상에 증착된 필름은 폴리에틸렌 구조에 균일하게 접착됩니다. 왁스 처리 후의 슬라이딩 테스트는 베이스 표면에서 왁스의 슬라이딩 특성의 개선, 높은 내마모성 및 현저한 지속 시간의 향상을 나타냅니다.

눈 위에서 실시된 이후의 테스트에서는 연구소 시험 결과를 능가했으며, 올바른 스키 준비 기법에 따라 두 가지 플라스마 처리 기술인 Openair-Plasma^® 및 PlasmaPlus^® 적용 시 달성된 성능 향상을 완전히 확인시켜 주었습니다. PlasmaSki 프로세스에 대한 특허는 2015년 3월에 부여되었습니다.